公司新聞

參考號:APN037

日期:2018年3月

北京國家會議中心630號展位 - 3月20日至22日

荷蘭奈梅亨 – 埃賦隆半導體(Ampleon)今天宣佈其參加3月20日至3月22日在中國北京舉行的電子設計創新大會(EDI CON)的詳細資訊。埃賦隆半導體所在的630號展位,位於中國國家會議中心的4樓,將會佈置一系列的熱門產品和演示。其中包括面向粒子加速器、Doherty廣播發射機和無線基地台的解決方案。該公司還將展示基於LDMOS的產品,包括面向FM廣播應用的大功率元件、面向鐳射和等離子體生成的極其堅固耐用的解決方案,以及面向航空電子和雷達系統的元件。此外,面向射頻能量應用的元件和pallet也將在展位上展示。

除展位展品外,埃賦隆半導體的多名員工也將參與該活動的會議日程。埃賦隆半導體射頻建模工程師Amit Dixit將於3月20日(星期二)下午12點55分在406室發表一篇關於面向射頻功率放大器設計實現的精確GaN建模(Accurate GaN modelling for RF power amplifier design enablement)的論文。

埃賦隆半導體開發與應用高級總監Coen Centen先生將于3月22日(星期四)上午9點在405室,參加主題為進軍工業市場(Inroads to the Industrial Market)的射頻能源聯盟(RF Energy Alliance)專題研討會。埃賦隆半導體是射頻能源聯盟的創始成員之一,在推廣高能效、緊湊和極其可靠的固態射頻功率解決方案方面發揮了領導作用。

3月22日下午12點20分,埃賦隆半導體創新工程師Osman Ceylan將在403室發表一篇關於寬頻大功率放大器用偏置網路的設計和優化(Design and Optimization of Biasing Networks for Wideband High Power Amplifiers)主題的論文。

+++完

欲瞭解更多資訊及讀者諮詢,請聯繫:

Susanne Schorn, Corporate Communications

Ampleon Netherlands B.V.,

Halfgeleiderweg 8, 6534 AV Nijmegen, The Netherlands,

電話:+31 6 83 63 10 59,

電子郵件:Susanne.Schorn@ampleon.com,

www.ampleon.com

透過電子郵件瞭解更多的資訊、文字和圖像,或討論專題文章的機會,請聯繫:

Robert Huntley, Director

Publitek Limited,

電話:+44 1225 470000,

電子郵件:robert.huntley@publitek.com,

www.publitek.com

關於埃賦隆半導體(Ampleon):

埃賦隆半導體創立於2015年,在射頻功率領域擁有50年的領導地位,旨在發揮射頻領域資料和能量傳輸的全部潛力。埃賦隆半導體在全球擁有超過1,350名員工,致力於為客戶創造最佳價值。 其創新而又一致的產品組合,可為諸如行動寬頻基礎設施、收音機和電視廣播、CO2雷射器和等離子體、核磁共振成像(MRI)、粒子加速器、雷達和空中交通管制、非蜂巢式通訊、射頻烹飪和除霜、射頻加熱和等離子照明等廣泛應用提供產品和解決方案。欲瞭解有關射頻功率領域全球領先合作夥伴的詳細資訊,請訪問www.ampleon.com